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第23讲:伊比利亚国际纳米科技实验室王中长研究员——原子尺度下材料中的表面与界面(2017.8.28)

无机材料中的表面和界面对其性能影响很大。已有大量研究表明,通过有效改变材料表面和界面,无机材料的诸多性能能得到有效地控制。比如,在半导体工业,退火能够有效改变半导体中的界面,从而改变其接触电阻/势垒。但目前对于这种界面-性能关系的阐述并不明确,特别是在原子层面上。近年来,我们致力于该关系的基础原理阐述,结合原子尺度表面界面表征技术及第一性原理计算方法来研究不同材料体系下的表面界面与性能的依存关系。本报告第一部分主要讲述TiO2表面以及Au/TiO2的接触界面对表面催化的影响。第二部分讲述单晶体Ruddlesden-Popper (RP)中的稀土La掺杂对其电性能的影响机理(从非金属到金属转变)。最后,报告将介绍我们对界面结构中最基础现象晶界和位错的研究成果,其中涵盖:晶界对点缺陷的吸收诱发晶界超结构的形成机制以及超结构对材料性能的影响;单一位错在外部作用下(退火)原子结构和电子性能发生重构,形成有序晶界超结构;位错的基本形貌以及位错种类的计算预测和实验验证。

报告人简介

伊比利亚国际纳米科技实验室高级研究员,PI。2007获日本东京大学博士学位。2008年至2009年,任日本东北大学助手,2009年至2012年,任日本东北大学助理教授,2013年至2017年,任日本东北大学副教授。2016年,伦敦大学学院访问学者。2017年起,任伊比利亚国际纳米科技实验室高级研究员、PI。一直从事无机材料的原子层面制备、表征、性能及第一性原理和分子动力学计算。在材料、相界面的基本原子结构与物理性能直接关联方面取得了较大进展。负责了19项包括日本国文部省科学研究费在内的国家和企业课题研究。在国际著名学术期刊Nature, Nature Nanotech., Nature Commun., Nano Lett., Adv. Mater., Angew Chemie, Phys. Rev., Appl. Phys. Lett.等上发表SCI检索论文190余篇。其中Nature以及子刊10篇。参与两部英文专著的撰写。在35个主要的国际会议上做邀请或者专题报告。相关研究成果获国际材料晶界与相大会年轻科学家奖,日本材料学会材料研究促进奖,国际材料联合会年轻科学家奖, NEC最高科学技术奖等。相关成果被朝日新闻、读壳新闻、日本经济新闻、东京新闻等宣传。

地址:湖北省武汉市武昌区珞珈山,武汉大学化学与分子科学学院,化北 118 & 化东 101/201

Tel:+86-27-68755687   Fax:+86-27-68755687   Email:leifu@whu.edu.cn

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