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美国超真空技术公司牛枫博士来访 (2016.3.22)

3月22日上午,牛枫博士关于“原子层沉积技术在纳米功能材料及二维材料中的新兴应用”(纳米化学论坛系列报告之十一)主题做了相关报告,他详尽地为我们讲述了原子层沉积技术(ALD)的相关原理、优势及应用等方面的研究,不仅有各种能源相关领域的器件构筑,还有保护、催化等应用,大家受益匪浅,一个多小时的报告飞快的过去了,大家仍意犹未尽。

中午,LANers迎来了牛枫博士到化北118会议室的进一步交流。期间,四位同学就不同二维材料等相关主题做了汇报,牛枫博士耐心的聆听着,并同大家一起对ALD技术与CVD技术进行讨论,看能否通过ALD与CVD相结合的方式来生成层数可控且质量更好的新型二维材料,从而来克服目前的CVD方法所存在的一些缺陷,大家也都踊跃的提出自己的见解和疑惑。

难忘的时光总是短暂的,充实的一天这么快就过去了,大家不仅了解了新领域,收获了新知识,也是一个新的方法的开始!
地址:湖北省武汉市武昌区珞珈山,武汉大学化学与分子科学学院,化北 118 & 化东 101/201

Tel:+86-27-68755687   Fax:+86-27-68755687   Email:leifu@whu.edu.cn

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